首页    光学产业    光学镀膜    低剩余反射率增透镀膜定制

低剩余反射率增透镀膜定制

产品基于硅、锗及硫化锌等红外基底材料,通过精密膜系设计及不同红外材料结合镀制,满足低应力、低剩余反射率的技术要求。产品适用于各类红外光学设备。

基本参数

参数 描述
镀制面型 平面、球面、棱镜
镀制基底 硅、锗、ZnSe、ZnS、CaF2
镀制口径 ≤ 480 mm(直径或对角线)
光学性能

反射率 ≤ 0.2%

显微硬度 ≤510 MPa
环境适应性 一次性通过GJB2485A中高低温、湿热等试验
备注 具备较低剩余反射率,应用于红外光学系统中可显著提升成像效果

产品详情

产品咨询

提供 科研级以上的态势感知 定制 方案!

请问您想咨询的产品类型是? *

必填字段

您的公司 *

您的称谓 *

电子邮箱 *

手机号码

需求说明 *

说明文件补充
温馨提示: 如有补充说明文件,可于此处上传(请选择小于10M的文件进行上传)

    产品详情

     

    PRODUCT INFORMATION